Основы метода магнетронного распыления материалов и технологии тонких пленок
Исследование влияния режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO. Назначение ионно-плазменного оборудования и процессы нанесения тонкопленочных функциональных покрытий на подложки большой площади.
Подобные документы
Свойства тонких покрытий на основе нитридов переходных металлов. Упругие свойства нитридных пленок. Получение нитридных пленок методом вакуумно-дугового распыления. Изучение структуры и механических свойств нитридных пленок и пленок переходных металлов.
статья, добавлен 08.12.2018Рассмотрение конструкции маломощного СВЧ-плазмотрона, используемого в установке плазменного нанесения порошковых покрытий. Особенности использования технологии нанесения тонких пленок и покрытий из различных материалов на разнообразные изделия.
статья, добавлен 23.02.2019Устройство малогабаритной вакуумной установки модульного типа. Определение толщины пленки меди на ситалловой подложке с помощью атомно-силового микроскопа. Анализ зависимости толщины тонких пленок меди от времени процесса при магнетронном распылении.
научная работа, добавлен 03.05.2019Исследование методами просвечивающей электронной микроскопии и рамановской спектроскопии модифицированных висмутом пленок Ge2Sb2Te5, полученных путем ионно-плазменного высокочастотного распыления. Смещение положений между интенсивностями пиков.
реферат, добавлен 13.04.2017Изготовление, применение, свойства тонкоплёночных структур на основе оксида тантала. Технологическое и измерительное оборудование. Осаждение тонких пленок окиси тантала, их оптические спектры. Исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик.
научная работа, добавлен 09.11.2018Возможности и технология методов магнетронного распыления и ионного осаждения покрытий. Нанесение антифрикционных, износостойких и жаростойких покрытий вакуумно-дуговым методом. Влияние нестехиометрии на физико-химические свойства поверхностных слоев.
учебное пособие, добавлен 03.03.2018Рассмотрение вакуумных ионно-плазменных методов нанесения покрытий. Агнетронные распылительные системы. Сведения об установке вакуумной металлизации. Меры безопасности при обращении с газовыми баллонами. Влияние электромагнитных полей на экологию.
дипломная работа, добавлен 02.01.2015- 8. Ионное ассистирование в процессах образования тонкопленочных структур на поверхности твердого тела
Ионное ассистирование - метод формирования тонкопленочных слоев, основанный на ионной бомбардировке выращиваемой фазы. Характеристики оборудования для исследования процессов ионного ассистирования и процесса ионно-лучевого нанесения тонких пленок.
отчет по практике, добавлен 09.11.2014 Получение тонких пленок ZnO удовлетворительного качества. Исследование влияния импульсного магнитного поля на их структуру и электрические свойства. Анализ морфологии и структуры полученных пленок, определение их толщины и электрических характеристик.
дипломная работа, добавлен 18.07.2020Проблема автоматизации известных методов оперативного контроля скорости осаждения покрытий в вакууме. Математическое моделирование планарной магнетронной системы распыления, электронно-эмиссионного датчика контроля скорости осаждения материала в вакууме.
автореферат, добавлен 10.08.2018Ознакомление с порядком формирования пленок в процессах ионно-плазменного нанесения. Исследование структурных последствий образования зародышей в тонких пленках. Рассмотрение схемы вакуумного напыления. Анализ диодных систем на постоянном напряжении.
курсовая работа, добавлен 18.04.2015Вакуумные ионно-плазменные методы нанесения покрытия. Оборудование для нанесения равномерных антидеструкционных покрытий на подложки большой площади (топливные и кислородные баки космических аппаратов). Установка вакуумной металлизации типа УВМ-1200.
дипломная работа, добавлен 14.03.2016Особенности использования тонких пленок в современных интегральных устройствах и датчиках. Результаты молекулярно-динамического моделирования квазистатического деформирования тонких пленок меди в условиях циклического нагружения и одноосного растяжения.
статья, добавлен 29.10.2018Преимущества использования современных покрытий: улучшение прочности и долговечности оборудования для добычи нефти и газа, "залечивание ран" на деталях самолётов и другие. Методы нанесения функциональных или износостойких покрытий на новые изделия.
статья, добавлен 24.02.2019Оксид церия как перспективный полупроводниковый материал. Влияние природы и обработки подложки на свойства CeO2. Составление пленкообразующего раствора, подготовка подложки к его нанесению. Анализ оптических свойств и морфологии полученных пленок.
курсовая работа, добавлен 28.02.2020Использование катодов из тугоплавких металлов для создания многофункциональных покрытий методом магнетронного распыления. Исследование морфологии и шероховатости поверхностного слоя ниобия и ванадия после их проволочной электроэрозионной обработки.
статья, добавлен 02.02.2019Экструзионный метод производства полимерных пленок. Производство рукавных и плоских пленок, их свойства. Методы получения комбинированных пленок. Влияние технологических параметров процесса получения на физико-механические свойства полимерных пленок.
реферат, добавлен 22.08.2011Модификация металлами традиционных пленок кремнийорганического полимера, содержащего в основной цепи специальные фрагменты, методом магнетронного напыления. Взаимосвязь структуры металлопленки с режимом и временем напыления, химической природой металла.
статья, добавлен 26.01.2020Особенности покрытия на основе вольфрама на резиновой подложке, полученного методом магнетронного распыления. Изображения покрытий, полученные распылением на резиновой подложке молибдена, тантала. Размер зерен, входящие в структурные образования.
статья, добавлен 02.02.2019Свойства пленок нитрида кремния. Электронная структура нитрида кремния. Способы получения пленок нитрида кремния. Высокотемпературные акустические приемники. Датчик газового анализатора. Применение тонких пленок нитрида кремния в микроэлектронике.
курсовая работа, добавлен 06.10.2019Образование и рост островковых тонких пленок. Устройство малогабаритной вакуумной установки модульного типа. Термическое испарение и магнетронное распыление. Исследование полученных структур меди на подложке с помощью атомно-силового микроскопа.
научная работа, добавлен 02.05.2019Изложение технологии осаждения тонких плёнок перспективных материалов для устройств фазовой памяти – халькогенидных стеклообразных полупроводников. Рассмотрение энергонезависимой памяти, основанной на фазовых переходах. Технология вакуумного нанесения.
статья, добавлен 25.03.2018Характеристика основных требований, которые предъявляются к технологическому процессу осаждения тонкопленочных покрытий. Расчет приращения емкости сетчатого конденсатора за счет осаждаемого материала в случае увеличения площадок под ячейками сетки.
автореферат, добавлен 10.08.2018Исследование полиморфных переходов в карбиде кремния. Зона Бриллюэна и сравнение 3C и 2H политипов SiC. Схема экспериментальной установки структурной кристаллографии. Принцип работы сканирующего зондового микроскопа. Метод магнетронного распыления.
аттестационная работа, добавлен 26.09.2016Направленная модификация поверхности. Вакуумно-плазменные методы получения функциональных покрытий. Особенности методов ВЧ распыления диэлектриков. Характеристики ВЧ магнетрона. Катодное распыление. Физические свойства покрытий, получаемых ВЧ распылением.
дипломная работа, добавлен 18.06.2014