Прогнозування характеристик термометричного матеріалу Hf1-XLuXNiSn

Розрахунок електронної структури та кінетичних характеристик термометричного матеріалу Hf1-xLuxNiSn у різних діапазонах. Аналіз чутливості досліджуваних характеристик до зміни температури. Основа для виготовлення чутливих елементів термоперетворювачів.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.