Влияние облучения медленными электронами на состояние нанопленок KCl и LiF на поверхности Si(111)

Изучение и определение условий образования точечных дефектов и их кластеров на поверхности тонких нанопленок KCl и LiF, сформированных на поверхности Si(111) при облучении медленными электронами. Зависимости образования поверхностных точечных дефектов.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.