Методы формирования тонкоплёночных структур
Основы термического вакуумного распыления. Особенности формирования тонких плёнок термовакуумным, ионным, молекулярно-лучевой эпитаксией, химическими и электрохимическими методами. Химические основы процесса получения эпитаксиальных плёнок кремния.
Подобные документы
Изложение технологии осаждения тонких плёнок перспективных материалов для устройств фазовой памяти – халькогенидных стеклообразных полупроводников. Рассмотрение энергонезависимой памяти, основанной на фазовых переходах. Технология вакуумного нанесения.
статья, добавлен 25.03.2018Образование и рост островковых тонких пленок. Устройство малогабаритной вакуумной установки модульного типа. Термическое испарение и магнетронное распыление. Исследование полученных структур меди на подложке с помощью атомно-силового микроскопа.
научная работа, добавлен 02.05.2019Физико-химические процессы формирования тонких пленок, методы их получения и базовые технологии пленочных структур элементов интегральных микросхем. Перспективные технологические методы создания наноструктур и элементов наноэлектронных устройств.
учебное пособие, добавлен 20.10.2014Механические, химические, физические и электрофизические свойства кремния. Применение кремния в электронной технике. Способы получения технического кремния. Способы получения и очистки трихлорсилана. Методы производства монокристаллического кремния.
реферат, добавлен 08.10.2017Изготовление, применение, свойства тонкоплёночных структур на основе оксида тантала. Технологическое и измерительное оборудование. Осаждение тонких пленок окиси тантала, их оптические спектры. Исследования вольт-амперных и вольт-фарадных характеристик.
научная работа, добавлен 09.11.2018Основы классификации и типы структур наноматериалов. Получение наночастиц высокочастотным индукционным нагревом и химическими методами. Основные технологии получения наноматериалов: аморфизация, пластическая деформация, порошковая металлургия и др.
курсовая работа, добавлен 11.09.2015Исследование механизма гетероэпитаксии кремния на сапфире, для последующего создания транзисторных структур с низкой дефектностью. Изучение методом резерфордовского обратного рассеяния эпитаксиальных слоев кремния выращенных на сапфировой подложке.
статья, добавлен 08.04.2019Ознакомление с порядком формирования пленок в процессах ионно-плазменного нанесения. Исследование структурных последствий образования зародышей в тонких пленках. Рассмотрение схемы вакуумного напыления. Анализ диодных систем на постоянном напряжении.
курсовая работа, добавлен 18.04.2015Исследование влияния режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO. Назначение ионно-плазменного оборудования и процессы нанесения тонкопленочных функциональных покрытий на подложки большой площади.
реферат, добавлен 25.12.2020Получение тонких пленок ZnO удовлетворительного качества. Исследование влияния импульсного магнитного поля на их структуру и электрические свойства. Анализ морфологии и структуры полученных пленок, определение их толщины и электрических характеристик.
дипломная работа, добавлен 18.07.2020Структуры основных политипов карбида кремния, особенности его структуры. Результаты исследования структур на основе карбида кремния методом инфракрасной спектроскопии. Принципы и этапы формирования структуры в композиционной карбид кремниевой керамике.
дипломная работа, добавлен 01.08.2021- 12. Технология прямого сращивания пластин кремния и технологические маршруты изготовления структур КНИ
Преимущества структур КНИ перед структурами на основе объемного кремния. Технологии создания структур КНИ. Особенности процесса имплантация ионов водорода в приборную пластину. Исследование процессов химико-механической обработки кремниевых структур.
статья, добавлен 02.11.2018 Вакуумно-плазменные методы формирования пленочных структур из тугоплавких оксидов. Особенности снижения влагосодержания в пленках путем отжига и получения покрытий с малой пористостью при электронно-лучевом испарении мишени и лазерной обработке структур.
дипломная работа, добавлен 11.07.2016Свойства пленок нитрида кремния. Электронная структура нитрида кремния. Способы получения пленок нитрида кремния. Высокотемпературные акустические приемники. Датчик газового анализатора. Применение тонких пленок нитрида кремния в микроэлектронике.
курсовая работа, добавлен 06.10.2019Оборудование и методы осаждения вещества. Газофазная эпитаксия - процесс осаждения эпитаксиальных слоев из газовой фазы. Конструкция камер для газофазного наращивания. Достоинства метода эпитаксиального наращивания. Получение поликристаллического кремния.
реферат, добавлен 12.01.2016Механизмы формирования микро- и наноструктур поверхностных слоев деталей при финишной абразивной обработке. Параметры процесса обработки, влияющие на формирование тонких поверхностных структур. Термическое и силовое воздействие на поверхность детали.
статья, добавлен 27.05.2018Перечень требований к полупроводниковым подложкам. Характеристика монокристаллического кремния. Схема производственного процесса изготовления интегральных микросхем. Технология получения кремния полупроводниковой чистоты и формирования из него слитков.
курсовая работа, добавлен 03.12.2010Структура сборочного процесса. Методы достижения заданной точности при сборке. Запрессовка, клепка, сварка, пайка, склеивание. Технология соединения проводниками, изготовление жгутов. Основы термического вакуумного напыления. Этапы разработки испытаний.
курс лекций, добавлен 11.12.2014Химические свойства, строение, источники получения и сферы применения толуола. Физико-химические основы процесса хлорирования толуола, технологическая схема его проведения. Особенности расчёта материального баланса химического процесса хлорирования.
курсовая работа, добавлен 07.06.2014- 20. Вакуумная металлизация элемента волноводного тракта, равномерно заполненного ферритовым диэлектриком
Технологии нанесения тонких плёнок на ферритовые стержни. Сравнение электрофизических характеристик покрытий, полученных разными способами. Блок схема стенда по измерению толщины и равномерности напыления. Формы импульсов перемагничивания феррита.
статья, добавлен 20.08.2018 Физические основы и особенности электронно-лучевой сварки: компоненты, технологические параметры, оборудование. Технические характеристики установки электронно-лучевой сварки прецизионных изделий УЭЛС-905АМ. Модернизация процесса и оборудования ЭЛС.
реферат, добавлен 12.12.2016Химические основы термического крекинга, сырье и продукты процесса. Назначение и основные реакции каталитического риформинга. Особенности и разновидности процессов гидрогенизации. Переработка нефтяных газов. Карбамидная депарафинизация дизельных топлива.
курсовая работа, добавлен 07.12.2012Физико-химические свойства пластического синтетического органического материала. Причины его использования в автомобильной промышленности. Технологический процесс термического вакуумного формования пластика. Методы компрессионного и литьевого прессования.
презентация, добавлен 18.12.2014Направленная модификация поверхности. Вакуумно-плазменные методы получения функциональных покрытий. Особенности методов ВЧ распыления диэлектриков. Характеристики ВЧ магнетрона. Катодное распыление. Физические свойства покрытий, получаемых ВЧ распылением.
дипломная работа, добавлен 18.06.2014Оборудование для термического окисления. Характеристика термических пленок SiO2. Скорость травления в буферном растворе. Воспроизводимые свойства использования реакторов пониженного давления. Особенности роста тонких и толстых пленок двуокиси кремния.
курсовая работа, добавлен 25.03.2014