Термическое окисление Si

Оборудование для термического окисления. Характеристика термических пленок SiO2. Скорость травления в буферном растворе. Воспроизводимые свойства использования реакторов пониженного давления. Особенности роста тонких и толстых пленок двуокиси кремния.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.