Формирование наноструктурированных покрытий методом магнетронного распыления

Устройство малогабаритной вакуумной установки модульного типа. Определение толщины пленки меди на ситалловой подложке с помощью атомно-силового микроскопа. Анализ зависимости толщины тонких пленок меди от времени процесса при магнетронном распылении.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.