Створення гальванічних покриттів
Електрохімічні основи гальванічного осадження, гальванічні покриття. Закон Фарадея: вихід за струмом і товщина шару. Імпульсне осадження. Механізм осадження і закономірності формування покриттів. Схема електролізної чарунки для гальванічного осадження Cu.
Подобные документы
Дослідження нанорозмірної субструктури металів. Механізми впливу вакуумного осадження на механічні властивості ГЦК-металів. Дослідження дисипативних властивостей, температурна залежність субструктури зерен та величини мікротвердості конденсатів.
автореферат, добавлен 29.07.2015Властивості діодів Шотткі, їх структура. Властивості і методи вимірювання контактів метал/напівпровідник. Вольтамперна характеристика ідеального контакту. Вакуумні методи осадження металів на поверхню напівпровідників. Фізичні принципи осадження шарів.
курсовая работа, добавлен 13.02.2016Загальні фізико-хімічні основи процесу коагуляції. Вилучення з води колоїднодисперсних домішок. Пом’якшення води методом осадження. Принципова схема коагуляційної установки з освітлювачем. Обробка води методом іонного обміну. Видалення газів із води.
курсовая работа, добавлен 02.08.2012Визначення тиску насиченої пари фуллерена, що випаровувався. Формування металофуллеренових конденсатів під час осадження потоків часток з підвищенною енергією металевої компоненти. Дослідження структури плівок фуллериту, легованих атомами вісмуту.
автореферат, добавлен 25.08.2015Теоретична оцінка параметрів осадження компонентів пари на підкладку, оптимізація умов напилення шарів. Особливості впливу концентраційного профілю та хімічного складу елементів-модифікаторів на параметри тонкоплівкових структур на основі As2S3.
автореферат, добавлен 22.04.2014Вплив хімічного складу, температури, швидкості потоку електроліту, зміни густини струму у процесі вирощування гальваноматриць на однорідність, напруження та шорсткість поверхні штампів. Вплив pH та концентрації сульфамату нікелю на його гідроліз.
статья, добавлен 29.01.2019Електролітична дисоціація у рідинах. Рух позитивних іонів до катода, негативних - до анода. Перший та другий законі Фарадея. Отримання хімічно чистих речовин. Процес осадження масивного шару металу на поверхні предмету, форму якого хочуть скопіювати.
презентация, добавлен 27.11.2014Властивості, структура та застосування діодів Шотткі. Формування контакту метал/напівпровідник. Вакуумні, хімічні і електрохімічні методи осадження металів на поверхню напівпровідників. Розрахунок залежності вольт-амперної характеристики ідеального діода.
курсовая работа, добавлен 29.11.2017- 9. Закономірності формування та еволюції нерівноважного структурного стану іонно-плазмових конденсатів
Структурний стан матеріалів, одержаних за умов високої нерівноважності процесів. Формування та еволюція фазового складу, структури, субструктурних характеристик конденсатів вольфраму, одержаних за нерівноважних умов осадження з іонно-плазмових потоків.
автореферат, добавлен 14.09.2015 Закономірності формування іонно-плазмових покриттів системи Ti-W-B і вплив постконденсаційної обробки на їх фазовий склад, структуру, субструктуру й напружений стан. Структура таких покриттів стійка до відпалів і опромінення протонами з енергією 200 кеВ.
статья, добавлен 13.10.2016Методика отримання шорстких поверхонь монокристалів NaCl, KCl. Процес осадження гранульованих плівок, що утворюють двошарове покриття. Визначення спектра поглинання вихідних та покритих відповідним діелектриком гранульованих плівок металів третьої групи.
автореферат, добавлен 10.01.2014Формування багатокомпонентних покриттів з регульованою стехіометрією. Створення розсіювання мішеней, виготовлених з алюмінію і нікелю. Аналіз розпилення магнітних металів і сплавів. Вдосконалення схеми установки і джерел плазми для утворення укладання.
автореферат, добавлен 27.09.2014Створення плівок поруватого кремнію електрохімічним методом. Характеристика електричних та оптичних властивостей прозорих плівкових оксидів. Застосування технології вологого хімічного та парового осадження при виготовленні головних ясних покрить.
диссертация, добавлен 01.01.2017Систематичне експериментальне вивчення змін складу, структури та властивостей плівок систем Zr-B та V-B. Оцінювання умови формування та зростання конденсатів, які отримують за допомогою систем ІПР. Осадження високотвердих наноструктурних плівок.
автореферат, добавлен 28.07.2014Розробка базових екологічних та ресурсозберігаючих пристроїв для очищення дисперсних двофазних газових середовищ. Очищення газу неізотермічними сітковими коагуляторами. Використання малогабаритних термофоретичних масловіддільників для систем суфлювання.
автореферат, добавлен 29.09.2015Фізико-технологічні параметри процесу формування тонких плівок шляхом термоіонного і реакційного термоіонного осаджування, різних модифікацій магнетронного розпилення та методами активованого плазмою хімічного осадження і лазерного випаровування.
автореферат, добавлен 22.04.2014Перенос і накопичення носіїв заряду в гетероструктурах Ge33As12Se55 - p-Si. Вплив на механічні властивості гетероструктур технологічних режимів одержання плівок, термообробки і високоенергетичного електронного опромінення. Оцінка параметрів осадження.
автореферат, добавлен 15.11.2013Встановлення взаємозв'язку структури алмазних та алмазоподібних вуглецевих плівок з умовами осадження. Дослідження фоточутливості отриманих гетеропереходів в ультрафіолетовій області випромінювання. Практичне використання плівок в оптоелектроніці.
автореферат, добавлен 22.04.2014Особливість пристроїв для очищення дисперсних двофазних газових середовищ із неізотермічними сітковими коагуляторами для різних витрат газу та вимог чищення. Характеристика високоефективних віддільників для систем технічного кондиціонування повітря.
автореферат, добавлен 29.09.2014Створення матеріалів, захисних покриттів та технологій на основі титан-вуглецю. Визначення оптимальних параметрів розпилення та конденсації вуглецево-титанових парів із різним ступенем пересичення. Вдосконалення магнітних систем робочих установок.
автореферат, добавлен 15.07.2014Дослідження структури і властивостей фаз у двох нанокомпозиціях вуглецю з залізом, що були вирощєні з використанням фероцену методом хімічного осадження пари. Визначення оптимальних умов утворення зв’язків вуглець-водень і, відповідно, генерації метану.
автореферат, добавлен 20.07.2015Дослідження процесів випаровування й осадження речовини тіогалату цинку при одержанні тонких плівок. Побудова моделі росту конденсату тіогалату цинку на підкладках. Розкриття впливу термічної і лазерної обробки на структуру й оптичні параметри плівок.
автореферат, добавлен 24.02.2014Фізичні аспекти створення нанокристалічних покриттів. Дослідження їх структурно-фазових, радіаційних та механічних характеристик. Математичне моделювання процесу дефектостворення в покриттях, які осаджуються в умовах бомбардування газовими іонами.
автореферат, добавлен 26.08.2014Запропоновано новий фізичний підхід оптимізації технології одержання напівпровідникових широкозонних шарів для плівкових фотоелектрично активних гетеросистем. Показано, що процес осадження шарів ZnO:Al не повинен викликати міжфазну та дифузійну взаємодію.
автореферат, добавлен 06.07.2014Дослідження властивостей тонких багатокомпонентних плівок: епітаксійних плівок SiGe, Si-Ge-С, отриманих методом плазмохімічного осадження. Введення вуглецю в процесі іонної імплантації і його вплив на рівень механічних напружень в епітаксійних структурах.
автореферат, добавлен 20.04.2014