Оптимизация процессов напыления меди и хрома методом термического испарения в вакууме

Нанесение пленок меди и хрома на диэлектрические подложки методом термического испарения в вакууме из резистивного испарителя. Оптимизация технологических процессов формирования проводящих слоев. Оценка в виде диаграммы срока службы испарителей.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.