Structure and properties NbN and Nb-Si-N deposited by magnetron sputtering

NbN and Nb-Si-N films were deposited by magnetron sputtering the Nb and Si targets on silicon wafers at various bias voltage. The films were annealed to establish their stability. The films were nanostructured represented an aggregation of crystallites.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.