Формирование тонких пленок из наноструктурированного порошка прошедшего газоразрядную плазму

Технология нанесения мелких частиц титаната бария в газоразрядном потоке плазмы на подложку с целью формирования тонкопленочного покрытия. Производство современных полупроводниковых приборов. Осаждения коллоидов на подложку в плазменном потоке.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.