Комплект технологической документации по оптической контактной литографии

Современные литографические процессы в технологии ППП и ИС. Выбор и описание технологического оборудования. Плотность элементов в кристалле ИМС. Возможные дефекты при проведении процесса контактной фотолитографии. Контроль рельефа рисунка в подложке.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.