RF magnetron sputtering of silicon carbide and silicon nitride films for solar cells

The use of high-frequency-magnetron sputtering, reactive solid-phase target in argon atmosphere to obtain silicon carbide and a film of silicon nitride. Using the obtained samples to create solar cells on substrates of monocrystalline silicon of p-type.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.