Тверді планарні джерела для дифузії бору з алюмоборосилікатних сполук

Термостійкі підкладки для легування кремнію в технологічних процесах. Виробництво напівпровідникових приладів та зінтегрованих схем. Отримання однорідного дифузного шару при високих температурах. Характеристика виготовлення твердих планарних джерел.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.