Технология литографических процессов

Анализ ограничений разрешающей способности фотолитографии. Сущность и этапы литографии: формирование слоя фоторезиста; создание рельефной структуры; перенос рельефа фоторезиста на технологический слой подложки. Развитие теневых методов литографии.

Подобные документы

Работы в архивах красиво оформлены согласно требованиям ВУЗов и содержат рисунки, диаграммы, формулы и т.д.
PPT, PPTX и PDF-файлы представлены только в архивах.
Рекомендуем скачать работу и оценить ее, кликнув по соответствующей звездочке.